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(주)테라테크
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    ESC란?

    (주)테라테크

    ESC(Electrode Static Chuck)

    반도체 및 디스플레이 제조장비의 진공챔버 내부에 기판(Silicon Wafer)이 놓이는 곳으로, 정전기의 힘을 사용하여 기판을 하부전극에 고정시켜주는 기능을 하는 핵심부품
    (ESC에 +,- 전기를 인가시키면 대상물(Object)에는 반대의 전위가 대전대고, 대전된 전위에 의하여 서로 끌어당기는 힘이 발생하는 원리를 이용)

    ESC 분류

    사용하는 전극의 개수에 따라 monopolar(unipolar)타입과 bipolar타입으로 분류
    Mono-Polar ESC
    양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 유전층(Dielectric)을 사이에 두고 마주본 형태

    Bi-Polar ESC
    양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 교대로 횡 방향으로 늘어선 형태

    구분 MONOPOLAR ESC BIPOLAR ESC
    배열 양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 유전층(Dielectric)을 사이에 두고 마주본 형태 양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 교대로 횡 방향으로 늘어선 형태
    구동방식 ESC에 (+)전하, 챔버 내 Plasma(-)전하로 대상물 Chucking ESC에 (+)(-)전하 인가하여 대상물 Chucking
    장/단점 1. 구조가 단순하여 제조가 용이함
    2. 처킹력(Chucking Force)이 큼
    3. Plasma(-)로 인한 대상물 손상 가능성 있음
    1. 구조가 복잡하여 제조가 어려움
    2. 상대적으로 적은 처킹력(Chucking Force)
    3. Plasma(-)가 필요치 않으므로 대상물 손상 가능성 없음
    모듈
    구분 MONOPOLAR ESC BIPOLAR ESC
    배열 양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 유전층(Dielectric)을 사이에 두고 마주본 형태 양(+)의 전극과 음(-)의 전극이 교대로 횡 방향으로 늘어선 형태
    구동방식 ESC에 (+)전하, 챔버 내 Plasma(-)전하로 대상물 Chucking ESC에 (+)(-)전하 인가하여 대상물 Chucking
    장/단점 1. 구조가 단순하여 제조가 용이함
    2. 처킹력(Chucking Force)이 큼
    3. Plasma(-)로 인한 대상물 손상 가능성 있음
    1. 구조가 복잡하여 제조가 어려움
    2. 상대적으로 적은 처킹력(Chucking Force)
    3. Plasma(-)가 필요치 않으므로 대상물 손상 가능성 없음
    모듈

    ESC 종류

    구분 Anodizing ESC Polymide ESC
    구동방식 Bipolar Type Monopolar Type
    제품 모식도
    구분 Anodizing ESC Polymide ESC
    구동방식 Bipolar Type Monopolar Type
    제품 모식도
    구분 APS Coating ESC Ceramic Sheet ESC
    구동방식 Interdigitated Type Interdigitated Type
    제품 모식도
    구분 APS Coating ESC Ceramic Sheet ESC
    구동방식 Interdigitated Type Interdigitated Type
    제품 모식도